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北京单场开奖奖金计算:SENTECH RIE SI591 平板電容式反應離子刻蝕機

sentech RIE SI591 平板電容式反應離子刻蝕機
Process flexibility工藝靈活性
反應離子刻蝕機 SI 591系列兼容多種氯基或氟基刻蝕工藝。
Small footprint and high modularity設備小型化和高度??榛?
Si591系列可設置為單腔系統或帶盒式裝片的多腔系統。
SENTECH control software SENTECH控制軟件
控制軟件包括模擬用戶界面,參數窗口,工藝程序編輯器,數據記錄和用戶管理。

SI 591的真空裝載片裝置和完全由計算機控制工藝條件的軟件系統,使其具優良的工藝重復性。靈活、??榛托⌒突荢I591系統的設計特點,最大能容納200mm(8吋)的樣品或載片盤。
SI591系統通過不同選件可實現穿墻安裝或最小占地面積。
大觀察窗位于上電極頂部,反應器能方便的容納SENTECH激光干涉儀或者OES、RGA系統。用SENTECH橢偏儀可以在設備上通過橢偏儀端口進行在線工藝監控。
SI591系統沿承了RIE的平行板電極設計優勢,刻蝕過程全部由計算機控制,可以進行多種材料的刻蝕。SENTECH還可提供多種自動化配置,從真空盒式裝片到最多六個端口的沉積刻蝕多腔系統,用以提高設備的靈活性和產能。SI591也可以作為多腔系統的??樽槌剎糠?。

SI 591 compact
• RIE plasma etcher with small footprint
• Loadlock
• Halogen and fluorine chemistry
• For up to 200 mm wafers
• Diagnostic windows for laser interferometer and OES

SI591 Cluster
• Configurations of up to 6-port transfer chamber available
• Combination of RIE, ICP-RIE, and PECVD
• Manual vacuum loadlock or cassette station
• Cluster for R & D and high throughput
• SENTECH control software